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2月 24, 2025
プロジェクトニュース
シリコンカーバイド:特集:主流になりつつある半導体
シリコンチップはほぼすべての電子製品に組み込まれていますが、用途によってはシリコンチップを超える効率が求められます。その中で、シリコンカーバイド(SiC)チップがシリコンに代わる高性能な選択肢として普及しています。VATの真空ソリューションにより、さらに多くの用途でSiCチップの持続可能な利用が実現されています。(読了目安:約2分)
イオン注入装置内の真空状態を最適に隔離・制御するためには、プロセスにおいて物理的に中立な動作を示しながら、精密な制御を可能にする真空バルブが必要です。
イオン注入プロセスの問題を解決するためのVAT真空バルブソリューションの詳細については、以下の製品からお選びください。