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シリコンカーバイド:特集:主流になりつつある半導体
シリコンチップはほぼすべての電子製品に組み込まれていますが、用途によってはシリコンチップを超える効率が求められます。その中で、シリコンカーバイド(SiC)チップがシリコンに代わる高性能な選択肢として普及しています。VATの真空ソリューションにより、さらに多くの用途でSiCチップの持続可能な利用が実現されています。(読了目安:約2分)
真空システムでガスの流れを制御するように、特別に設計されたバルブです。設計や向きはさまざまですが、目的は同じで、真空システム内のガスの流れを調整するものです。
真空アングルバルブ:90度曲がった設計になっており、真空システム内で向きを変えることができます。スペースに制約がある場合や、配管構成が特殊で流れの向きの変化が必要なアプリケーションで一般的に使用されます。
インライン:まっすぐな設計になっており、流路の変化なしに直線方向にガスを流すことができます。直線的な流れが好ましい場合や、直接の流路を確保可能なスペースのある場所へのアプリケーションに適しています。
シリンダーバルブ:円筒形の設計になっており、リニアアクチュエータ機構が付いていることが多いです。汎用性が高く、真空システム内でさまざまな向きで使用できるため、取り付けや運用において柔軟性があります。
通常、主なコンポーネントは、バルブ本体、アクチュエータ(手動、空気圧、または電気)、シーリングエレメントに加えて、アングルバルブの曲がり角度やシリンダーバルブの円筒本体など、バルブタイプに固有の追加機能です。
真空アングルバルブ:真空室、半導体製造、薄膜堆積などで一般的に使用されたり、流れ方向の変更が必要な場合に使用されたりしています。
インラインバルブ:インラインバルブは汎用性があり、製薬、化学処理、研究など、さまざまな業界の、ガス転送、隔離、制御の真空システムに使用されています。
シリンダーバルブ:真空乾燥、真空炉、真空コーティングプロセスなど、幅広い真空アプリケーションで使用されています。
考慮すべきこととして、必要な流量、圧力範囲、材料の適合性、スペースの制約、システム内の向き、作動方法、およびアプリケーションや業界基準による特定の要件や好みの設定があります。
正確な流量制御、真空環境との互換性、信頼性、設置の容易さ、システム設計と構成の柔軟性などのメリットがあります。